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什么是铜排

铜排是一种大电流导电产品，适用于高低压电器、开关触头、配电设备、母线槽等电器工程，也广泛用于金属冶炼、电化电镀、化工等超大电流电解冶炼工程。电工铜排具有电阻率低、可折弯度大等优点。

铜排又称铜母线、铜母排或铜汇流排、接地铜排，是由铜材质制作的，截面为矩形或倒角(圆角)矩形的长导体，由铝质材料制作的称为铝排，在电路中起输送电流和连接电气设备的作用。 铜母线的质量要求执行的是GB/T 5585.1-2005标准。

高温高延伸性铜箔（简称为HTE铜箔）

在高温（180℃）时保持有优异延伸率的铜箔。其中，35μm 和70μm厚度的铜箔高温（180℃）下的延伸率应保持室温时的延伸率的30% 以上。又称为HD铜箔（high ductility copper foil）。

低轮廓铜箔（简称LP）

一般铜箔的原箔的微结晶非常粗糙，呈粗大的柱状结晶。其切片横断层的棱线，起伏较大。而低轮廓铜箔的结晶很细腻（在2 μm以下），为等轴晶粒，不含柱状的晶体，呈成片层状结晶，且棱线平坦。表面的粗化度低。超低轮廓电解铜箔经实际测定，平均粗化度（Ra）为0.55μm（一般铜箔为1.40μm）。铜箔可以根据性能划分为标准铜、高延伸性铜箔（HD）、高温高延伸性铜箔（THE铜箔）、耐转移铜箔。粗化度为5.04μm（一般铜箔为12.50μm）。

原箔raw copper foil

在电解机（电解槽）中生产出的未经表面处理的箔（国内还称为“生箔”、“毛箔”）。原箔（raw copper foil）是在该设备上制造完成。

表面处理 surface treatment

是铜箔生产的一个重要环节。它包括对铜箔进行粗化层处理（roughing treatment）、障壁层处理（barrier treatment ，又称为耐热层处理）及防锈处理（anti-tarnish，又称为防氧化处理）等。

粗化层处理 roughening treatment

为使铜箔与基材之间具有更高粘接强度,在粗糙面上所进行的瘤化处理.